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PS如何制作芯片反射光
作者:暂无发布时间:暂无

1.【打开】PS,【导入】素材,拖动到【图层】中,【Ctrl+T】调整大小与位置,【滤镜】-【模糊】-【动感模糊】,调整【参数】,具体如图示。



2.【Ctrl+J】复制图层,【重复】操作,【Ctrl+E】合并所选图层,【滤镜】-【模糊】-【动感模糊】,调整【参数】,具体如图示。



3.【Ctrl+Shift+U】去色,【Ctrl+U】色相/饱和度,调整【参数】,具体参数效果如图示。



4.再次【Ctrl+U】色相/饱和度,调整【参数】,具体参数效果如图示。



5.【Ctrl+J】复制图层,【Ctrl+T】调整大小与位置,调整【锚点】位置,具体如图示。



6.按【Ctrl+单击缩览图】调出选区,按【Alt+单击蒙版】,使用【画笔工具】,黑色画笔,进行涂抹,具体如图示。



7.【Ctrl+T】调整旋转与位置,调整【锚点】位置,按【Alt+单击蒙版】,使用【画笔工具】,黑色画笔,进行涂抹,具体如图示。



8.新建【图层】,使用【画笔工具】,【前景色画笔】,进行涂抹,调整【图层模式】线性减淡,具体如图示。



9.【滤镜】-【模糊】-【高斯模糊】,调整【高斯模糊】8.6像素,具体如图示。



10.新建【色阶】,调整【色阶】参数,具体参数效果如图示。



11.最终效果具体如图所示。




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电商教程 PS-芯片反射光
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