1. 打开【Ps】,拖入【背景素材】,再拖入【Logo】,调整大小,右键选择【透视】,调整透视。
2.再复制3个,隐藏。选择第一个,【Ctrl+J】再复制3个,【Ctrl+G】编组。再隐藏上面3个,选择第一个,点击【滤镜】-【模糊】-【高斯模糊】,调整半径。模式为【正片叠底】,降低不透明度。
3. 显示第2层,添加【高斯模糊】,半径为【20】,模式为【正片叠底】,降低不透明度。往左移动一点。
4. 同理处理第3和第4个阴影。
5. 再显示【Logo-2】,移动位置。添加【斜面与浮雕】图层样式,调整参数如图示。