1、在【PS】打开【产品素材】使用【钢笔】进行抠图,然后【路径面板-全选锚点后】【复制一层路径】。
2、继续使用【钢笔】绘制其他部分的【路径】,【CTRL+ENTER转化为选区-SHIFT+F6羽化1px】然后【CTRL+J复制】(同上的方法保存工作路径)。
3、然后将【两部分-分别编组-命名为屏幕、机身】在最上方【新建曲线、黑白】然后将这两个【编组-命名为观察组】。
4、调出【机身的选区-CTRL单击图层缩略图】(感觉不平滑调整羽化值)然后在选区内,使用【修补工具涂抹掉LOGO】。
5、然后使用【修复画笔】涂抹(边缘瑕疵、以及颜色的过渡),实验颜色分布更加均匀(该操作在现实观察组下进行调整)。
6、【隐藏观察组】导入【LOGO素材】【CTRL+T调整大小】并添加一个【颜色叠加】。
7、在【机身组内-新建组-命名为大的型体光】先【CTRL单击缩略图-调出整个产品的选区-CTRL+SHIFT+I反选】【套索工具-绘制选区】【新建图层-填充黑色】。
8、然后【复制一层】(隐藏原图层)调整位置。
9、【椭圆选框(亦可使用钢笔进行抠图)】绘制【左侧面的选区】【CTRL+T调整选区大小】然后在【产品图层上】【CTRL+J复制】。
10、然后调出【左侧的选区】在【步骤7】的【图层上-删除】(左侧不需要)然后给【步骤7】添加【高斯模糊】。
11、【降低图层不透明度50%左右】添加【蒙版】调出【左侧面的选区】在蒙版上【填充黑色】。
12、【新建图层-矩形选框-绘制选区-填充白色】添加【高斯模糊】参数如图。
13、同样添加【蒙版(左侧操作同上)右侧使用【黑白渐变】】调整【图层不透明度60%左右】。