1、首先分析本课的主要内容。
2、使用【污点修复画笔-修饰杂质】然后拉出【参考线】使用【钢笔工具】分‘结构’进行抠图(保存工作路径)。
3、【CTRL+ENTER路径转化为选区】【CTRL+J复制一层】然后下方【新建图层-填充白色】(两个结构面分别复制一份,并且编组)。
4、【新建图层】【绘制选区-填充渐变】【CTRL+T调整透视】然后【创建剪切蒙版】。
5、按住【CTRL-单击图层4拷贝的缩略图-提取选区】【CTRL+SHIFT+I反选】【新建图层-填充黑色】【矩形-绘制选区-删除】。
6、同样【调出选区-给组选区蒙版】然后向上移动【步骤5的图层】添加【高斯模糊】参数如图,【混合模式改为正片叠底-降低图层不透明度】。
7、同样的方法绘制‘顶部的转折暗面+高光面’(钢笔描边路径操作方法进行操作)添加【蒙版】边缘使用【黑白渐变调整过度】。
8、【新建图层-钢笔绘制路径(调整画笔的参数)-右键-描边路径】【复制一层-隐藏底层】添加【高斯模糊】。