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C4D怎样设计DNA蜕变动效
作者:暂无发布时间:暂无

1、打开C4D,新建【矩形】,按【C】转化为可编辑对象,把【闭合样条】取消勾选,把矩形【旋转】90度,选中两个点网上移一下。

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2、选中所有的点调节一下位置,右键执行【倒角】,新建【运动图形】下的【克隆】,把矩形放入克隆下面,把【固定克隆】取消勾选,增大

【Y】距离,增大【数量】。

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3、添加【螺旋】,全选执行【Alt+G】打组,调整螺旋的【角度】,把【限制】改成【无限】,再添加【融球】,把【空白】拖到融球里面,把

【外壳数值】改为600,【编辑器细分】为5,【渲染器细分】为5。

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4、按住【Ctrl】复制一份融球,上面命名为【高面】,下面命名为【低面】,选择【高面】下面的【空白】,右键添加【C4D标签】,选择【融

球】,【强度】为110,【半径】为12。

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5、将【融球】标签复制给另一个【空白】,隐藏上面一个【融球】,右键执行【当前状态转对象】,选择【低面】的所有面,右键执行【三角

化】。

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6、【双击空白地方】新建材质,在【颜色】添加【菲涅尔】,进入【菲涅尔】,颜色改为黄色,复制【纹理】,粘贴给【发光】的【纹理】通

道,打开【凹凸】通道,在【纹理】添加【噪波】,【强度】为-69,【类型】为FBM,赋予给【高面】,【投射】方式为【柱状】。

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7、选择低面,选中所有的面右键执行【沿发现移动】,【移动】为0.5,【双击空白地方】新建材质,把【颜色】关闭,把【反射】里的【默认高

光】移除,添加【GGX】,【粗糙度】为5,【层颜色】为偏黑色,再添加一个【GGX】,把【层菲涅尔】改成【绝缘体】,【折射率】为1.5,

勾选【凹凸】通道,【纹理】添加【表面】中的【平铺】,【图案】为【六边形】,【平铺颜色】为白色,【填充宽度】和【斜角宽度】为0.5。

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8、把材质赋予给低面,【投射】方式为【立方体】,【长度U】和【长度V】为50。

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9、添加【摄像机】,点击【坐标】旋转摄像机,添加【空对象】,调整空对象位置,把摄像机放到空对象下,把工程的总长度调为300,在第0帧

的时候给【Y】轴打上关键帧,在300帧的时候把空对象拖下来,【Y】轴打上关键帧。在旋转【H】上也打上关键帧。

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10、给【低面】添加【模拟标签】里的【布料】,【重力】改为0,【标签】的【使用撕裂】打钩,点击【模拟】,选择【布料】打开【布料曲

面】,把【低面】拖到【布料曲面】里面,【细分数】为0,【厚度】为-1。

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11、点击【模拟】,打开【粒子】,选择【引力】,把引力拖到上面,【衰减】改成【球体】,【尺寸】为200,【强度】改为-2000。

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12、回到第0帧把【引力】拖到最上面打上关键帧,在200帧的时候拖下来打上关键帧,【Shift+F3】打开时间线,全选点击【线性】。

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13、点击布料标签,点击【计算缓存】。

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14、添加【细分曲面】,把布料曲面拖到细分曲面下,【编辑器细分】和【渲染器细分】改为1,打开【渲染设置】,选择【物理】,【采样器】

选择【固定的】,点击【选项】,取消勾选【默认灯光】。

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15、打开【HDRI】,选择点击合适的,把【背景】和【地面】全部取消勾选,增大半径。新建【灯光】,【高光】关闭,【环境光照】打开,

【强度】改为30。

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16、添加【灯光】,【投影】选择【阴影贴图】,【衰减】为【平方倒数】,把灯光拖上来,把第一个灯光命名为【环境光】,把第二个灯光拖到一边,增大衰减半径。

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17、灯光的【颜色】改为暖色,按住【Ctrl】复制出另一个,把【漫射】关掉,把【衰减半径】增大。

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18、打开【渲染设置】,选择【物理】把【采样】选为【自适应】,选择【低面】和【高面】,右键添加【合成】,对象缓存低面勾选【启用】

是1,高面是2。在渲染设置里,添加【环境吸收】,在【多通道】添加两个【对象缓存】,第二个改成2。

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19、点击【效果】添加【高光、投影、反射、材质发光】、在输出设置选择【全部帧】。勾选【Alpha通道】,打开【多通道】,合成方案勾选

【3D数据】和【时间线标记】,点击【保存方案】。

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20、点击渲染。

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21、最终效果图如图所示。

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C4D教程 C4D-DNA螺旋蜕变动效(上集)
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