本节课程的内容是讲解如何使用【C4D】和【AE】软件制作概念场景；同学们可以在下方评论区进行留言，老师会根据你们的问题进行回复，作业也可以在评论区进行提交。
本次课程的课程目标是使用C4D配合OC制作概念场景；核心知识点是室外布光技巧、场景搭建以及Topowire插件使用方法。
那我们开始今天的教程吧。
1.打开【C4D】，新建场景，【Ctrl+B】打开【渲染设置】，尺寸【1920*817】，【帧频】25，时间设置【75F】，【ctrl+D】打开工程设置，【帧频】25；【shift+V】配置视图，点击【查看】，【透明】100%。
2.新建【立方体】，在【对象】面板之后调整立方体的大小；按【C】键转为可编辑对象；【边】层级下右键【循环切割】，给立方体中间添加循环线；选择循环线，右键【倒角】，调整【偏移】67.9；得到两条距离相等的循环线。
3.选择侧边，右键【倒角】，【偏移】12.57，效果如下。
4.【面】层级下选择顶面，右键【内部挤压】，【移动工具】向外扩张；右键【挤压】，向上拖动，得到凸起的结构；选择顶部的面，右键【内部挤压】，向里收缩；【移动工具】下按住【Ctrl】键向下拖动，得到凹槽结构。
5.创建【立方体】，调整其大小，移动到立方体的侧面，点击【对象】，勾选【圆角】；点击插件中的【超级布尔】命令，得到侧面的凹槽结构。
6.点击【变形器】、【倒角】，给立方体模型添加倒角效果，勾选【用户角度】，【细分】3，【偏移】0.6,；选择模型右键【当前状态转对象】，修改命名为“基础模型01”。
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